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氪气、氩气等高纯气体在真空涂层技术上的应用

氪气、氩气等高纯气体在真空涂层技术上的应用

发布日期:2019-04-30 作者:?#22836;?/span> 点击:

  真空涂层技术起步时间不长,国际上在上世纪六十年代才出现将CVD(化学气相沉积)技术应用于硬质合金刀具上。到了上世纪七十年代末,开始出现 PVD(物理气相沉积) 技术,为真空涂层开创了新天地,之后在短短的二、三十年间PVD 涂层技术得到迅?#22836;?#23637;。真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MT-CVD(中温化学气相沉积)等新技术,各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。随着技术的不断发展,对工艺气体如氪气、氩气、氢气等气体的需求不断增大。

  

  现代涂层设备(均匀加热技术、温度测量技术、非平衡磁控溅射技术、辅助阳极技术、中频电源、脉冲技术) 现代涂层设备主要由真空室、真空获得部分、真空测量部分、电源供给部分、工艺气体输入系统、机械传动部分、加热及测温部件、离子蒸发或溅射源、水冷系统等部分组成。

  

  工艺气体输入系统是真空涂层技术中非常重要的一环,主要会用的工艺气体,如氩气(Ar)、氪气(Kr)、氮气(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氢气(H2)、氧气(O2)等,?#35805;?#22343;由气瓶供应,经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀,然后通入真空室。这种气体输入系统的优点是,管路简捷、明快,维修或更换气瓶容易。

  

  各涂层机之间互不影响。也有多台涂层机共用一组气瓶的情况,这种情况在一些规模较大的涂层车间可能有机会看到。它的?#20040;?#26159;,减少气?#31354;?#29992;量,统?#36824;?#21010;、统一布局。

  

  缺点是,由于接头增多,使漏气机会增加。而且,各涂层机之间会互相干扰,一台涂层机的管路漏气,有可能会影响到其他涂层机的产品质量。?#36865;猓?#26356;换气瓶时,必须保证所有主机都处于非用气状态。

  

  真空涂层技术中使用的工艺气体对气体的纯度也有较高的要求,因此选择有质量保证的气体供应商就十分重要!


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